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イオン注入技術

フォーマット:
図書
責任表示:
難波進編著
言語:
日本語
出版情報:
東京 : 工業調査会, 1975.2
形態:
5, 194p ; 21cm
著者名:
難波, 進(1928-) <DA00542615>  
シリーズ名:
エレクトロニクス技術全書 ; 8 <BN00579494>
書誌ID:
BN03431514
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1 図書 半導体イオン注入技術

蒲生, 健次

産業図書
7 学位論文 イオン注入による集積化NVセンターの形成に関する研究

春山, 盛善

群馬大学大学院理工学府
2 図書 イオン注入の光学的効果 : 基礎光物性から光導波路・ナノ粒子まで

Townsend, Peter David, Chandler, P. J., Zhang, L., 1937-, 雨倉, 宏(1964-)

吉岡書店
8 学位論文 イオン注入法を用いた発光素子の作製と評価に関する研究

稲田, 和紀

群馬大学工学研究科
3 学位論文 イオン注入を用いたフォトニック結晶導波路と発光素子の作製・評価に関する研究

川尻, 慎也

群馬大学工学研究科
9 学位論文 イオン注入法により形成される光デバイスの作製と評価に関する研究

河嶋, 亮広

群馬大学工学研究科
4 図書 光・マイクロ波半導体応用技術

阿部, 浩之, 三村, 高志, 茅根, 直樹

サイエンスフォーラム
10 図書 マイクロプロセスハンドブック

難波, 進(1928-)

工業調査会
5 図書 イオン・インプランテーション : 理論と応用

伊藤, 糾次(1922-)

昭晃堂
11 図書 半導体真空技術 : ポイント解説

宇津木, 勝

東京電機大学出版局
6 図書 イオン注入による不純物導入と欠陥制御の研究

群馬大学, 1999.3
12 図書 マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術

式田, 光宏(1964-), 佐藤, 一雄(1948-), 田中, 浩

シーエムシー出版