ヒューム・ロザリー電子濃度則の物理学 : FLAPW-Fourier理論による電子機能材料開発

フォーマット:
図書
責任表示:
水谷宇一郎, 佐藤洋一共著
言語:
日本語
出版情報:
東京 : 内田老鶴圃, 2015.10
形態:
xi, 231p : 挿図 ; 21cm
著者名:
書誌ID:
BB19652405
ISBN:
9784753621019 [4753621014]  CiNii Books  Webcat Plus  Google Books
子書誌情報
Loading
所蔵情報
Loading availability information
タイトルが類似している資料

類似資料:

1
 
2
 
3
 
4
 
5
 
6
 
7
 
8
 
9
 
10
 
11
 
12
 
1 図書 金属電子論

水谷, 宇一郎(1942-)

内田老鶴圃

高分子学会

共立出版

2 図書 金属電子論

安達, 健五, 日本金属学会

丸善

水谷, 宇一郎(1942-)

アグネ技術センター, アグネ (発売)

上田, 和夫(1949-), 大貫, 惇睦(1947-)

裳華房

Hume, David, 1711-1776, Locke, John, 1632-1704, 大槻, 春彦(1903-1994)

中央公論社

近藤, 淳(1930-)

裳華房

Locke, John, 1632-1704, Hume, David, 1711-1776, 大槻, 春彦(1903-1994)

中央公論社

一ノ瀬, 昇

オーム社

Hume-Rothery, William, 1899-

Pergamon

一ノ瀬, 昇

オーム社

Hume-Rothery, William, 1899-

Institute of Metals